由 dawei
2019年，EUV占ASML销售额的31%，但到2020年，就占到了43%，成为最“赚钱”的产品线。一台EUV设备的高度可以达到4到5米，重量接近180吨。这样的高科技设备，其中的零部件数量也是巨大的，大约有10万个。
EUV设备曝光是在真空室中完成的。还需要以0.005℃为单位精细控制温度的技术。由于光学系统对污染物非常敏感，因此还必须实时进行内部监控。
由于这些特点，生产EUV设备并不容易。EUV 设备的性能取决于镜头和反射镜的分辨率。分辨率通常与镜头像差 (NA) 成正比。出于这个原因，努力增加 NA 是绝对必要的。当NA值高时，分辨率提高，光线变得更清晰，可以实现更精细的半导体电路。
正是出于这个原因，ASML 收购了全球光学公司蔡司的股份。目前，EUV设备NA值为0.33。ASML 计划通过研发将下一代 EUV 设备的 NA 提高到 0.55。这称为高NA。